2022上海國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會

Shanghai lithography equipment and photomask Application Technology Exhibition

〓 基本信息 〓

時間：2022年11月14-16日                地點：上海新國際博覽中心

Time：November 14-16.2022       Venue:Shanghai New International Expo Centre

〓 展會前言 〓

微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。“2022上海國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會”將于11月14-16日在上海新國際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！

〓 展商受益 〓

1、 收集最新的高質(zhì)量銷售資訊，結(jié)識高質(zhì)量買家并達成銷售交易。

2、 了解未來生產(chǎn)需求發(fā)展全球戰(zhàn)略。

3、 與全國代理、經(jīng)銷商構(gòu)建銷售網(wǎng)絡(luò)。

4、 通過與各地生產(chǎn)商和買家的合作來發(fā)掘新的商業(yè)機會。

5、 加強公司品牌建設(shè)，提高公司的行業(yè)知名度。

6、 獲得關(guān)于最新市場趨勢、技術(shù)創(chuàng)新、行業(yè)最新發(fā)展動態(tài)以及的相關(guān)行業(yè)資訊。

〓 為何參展 〓

預(yù)計30,000余專業(yè)人次來自光刻設(shè)備全產(chǎn)業(yè)鏈的專業(yè)買家將蒞臨現(xiàn)場

預(yù)計面積達30000平方米，500余家行業(yè)企業(yè)同期展示，共赴行業(yè)盛會

35家合作機構(gòu)組團參觀

形式多樣的配套會議及活動，涵蓋組團參觀、、論壇、訪談

全方位海內(nèi)外渠道營銷，線上與線下共同造勢

超過300家行業(yè)媒體，提供全天候，一站式營銷解決方案

穩(wěn)固老客戶，開拓新市場，發(fā)現(xiàn)新機遇

〓 目標(biāo)觀眾 〓

邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機構(gòu)和公共機構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。

〓 日程安排 〓

布展時間：2022年11月12- 13日  　       AM8:30-PM19:30

展覽時間：2022年11月14日            　 AM9:30-PM16:45

          2022年11月15日            　 AM9:30-PM16:30

撤展時間：2022年11月16日       　　　  PM14:00-24:00

〓 參展范圍 〓

◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；

◆光刻機、光刻技術(shù)、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；

◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等；

〓 聯(lián)系我們 〓

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